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X射线光电子能谱(XPS)

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X射线光电子能谱(XPS)

  • 分类:测试服务
  • 发布时间:2022-05-18 16:54:34
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概要:
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  1、项目介绍:

 

  X射线光电子能谱仪利用X射线激发材料表面以下1纳米到10纳米范围内所逸出光电子的结合能及数量,从而得到X射线光电子能谱来测定样品中的元素构成及元素化学态和电子态。借助于离子束的剥蚀,X射线光电子能谱还能实现深度剖析,并广泛应用于薄膜各层及界面分析。best365体育官网平台拥有世界最高性能的XPS光电子能谱分析,发挥出在微小区域自动分析上的卓越功能。

  拥有世界首创的扫描聚焦式X射线源,可对从最小7.5微米分析区域

  获得高灵敏度的分析数据结果

  全自动化分析,可以轻松地对绝缘样品达到自动中和效能

  高性能深度分析,75x75mm样品台

  全自动且高可靠度的测量,最佳能量分辨率低于0.48 eV(Ag3d5/2)

  X射线光电子能谱 XPS主要应用于材料表面表征、元素化学价态、膜层深度测试;

 

  (1)材料表面表征

  信号来源:表面下1-10nm.

  利用0-1300eV 宽谱确定表面元素/污染物信息。

  利用精扫确定表面元素/污染物含量。

  能量分辨率:~0.48eV

  检测元素范围:Li~U

  检测精度: 0.1~1.0 at%

  因样品在运输过程中可能受空气污染物影响,best365体育官网平台将提供样品原貌表面分析,以及5nm溅射清理后的表面分析

 

  (2)元素化学价态

  利用元素精扫结果进行分峰分析,以获得相应元素化学价态。

  元素价态可用于分析:表面氧化,卤素污染,化合物推定。

  通过与深度结果综合分析,可以用于推测氧化层厚度。

 

  (3)膜层深度测试

  通过离子溅射剥离测试区域最外层,对样品进行逐层分析。

  溅射深度:1-500nm

  溅射深度精度:1-10nm

  溅射离子源:氩离子

  可用于推测氧化层深度,掺杂含量及深度,分析膜层结构。

 

  2、应用案例:

 

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